중국의 심자외선(DUV) 노광장비 양산 소식이 증시에 큰 충격을 준 이유는 그동안 중국의 반도체 굴기를 제약해온 핵심 장벽까지 무너질 가능성이 제기돼서다. 노광은 장비는 물론 메모리와 인공지능(AI) 칩, 모델로 이어지는 반도체 밸류체인 중 중국이 아직 독립하지 못한 유일한 분야다. 이마저 중국이 자립 기반을 갖추기 시작해 창신메모리(CXMT)를 필두로 장비 수요를 떠받칠 칩메이커들도 경쟁력을 키우고 있어 한미일 반도체 업계의 위기감이 고조된 것이다. 28일 시장조사 업체 트렌드포스와 중국 관연천하 등에 따르면 중국은 증착→노광→식각→세정으로 이어지는 반도체 장비 4대 분야 중 노광만 자급률이 전무하다. 식각과 세정이 각각 지난해 자급률 50~60%를 달성한 것과 대조적이다. 15~20%의 증착 역시 글로벌 5위 장비 업체로 등극한 나우라가 세계 물리기상증착(PVD) 시장 。유율 12%를 확보하며 빠르게 성장하고 있다. 모바일황금성 웨이퍼에 자외선을 쬐여 회로를 새기는 노광은 미국이 강력 제재하는 중국 반도체 공급망의 아킬레스건이다. 자외선 파장이 짧을수록 더 미세한 회로를 그릴 수 있는데 현존 가장 짧은 13.5㎚ 파장의 ASML 극자외선(EUV)과 침지형 DUV 장비는 중국 내 반입이 금지됐다. 이런 상황에서 중국이 자체 침지형 DUV를 통해 노광 분야에서 처음으로 미국 제재에 맞서는 것이다. 이종환 상명대 시스템반도체공학과 교수는 “중국이 자체 DUV 양산에 성공한다면 앞으로 D램 경쟁에서 한국 추격에 속도를 낼 수 있다”고 말했다. 중국은 국가적으로 노광장비 국산화에 집중하고 있다. 선전시는 화웨이와 손잡고 국가 프로젝트로 EUV를 시제품 단계까지 개발했다. 나아가 장비 수요를 떠받칠 메모리, AI 칩, AI 모델까지 급성장시키며 반도체 전반에서 공세를 강화하고 있다. 파칭코게임 특히 이번 DUV 장비를 우선 공급받을 것으로 알려진 CXMT는 1a D램을 포함한 구형 D램 사업과 시너지를 만들 것으로 보인다. 삼성전자(005930)와 SK하이닉스(000660)가 첨단 공정 기반으로 두 세대 앞선 1c D램에 집중하는 가운데 중국 매체들은 CXMT를 필두로 현재 8%인 중급 범용 D램 자급률이 2028년 30%까지 빠르게 오를 것으로 내다봤다. 다만 이번 DUV 물량은 올해 5대, 내년 20대로 ASML의 지난해 공급 규모(131대)에 비해 미미한 데다 성능도 확인되지 않은 만큼 아직 기술 자립 성과로 평가하기 이르다는 지적도 나온다. 여전히 EUV의 부재로 삼성전자·SK하이닉스의 1c 이상 첨단 D램 경쟁에 대응하기도 힘들다. 중국산 EUV는 상용화까지 수년은 더 걸릴 것으로 전망된다. 업계의 한 관계자는 “실제 영향이 어느 정도인지 단정할 수 없다”며 “다만 중국이 AI 분야의 막대한 내수 시장을 앞세워 장비를 포함한 반도체 생태계를 빠르게 키울 가능성은 있다”고 말했다. errer">파칭코